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华中科技大学团队成功研发国内首款全自主计算光刻 EDA 之 OPC 软件

本文由用户 残孤星傲 发表于 2022年11月27日 52RD      参与:1人 我来说两句
  

11 月 26 日消息,据中国光谷、湖北卫视等报道,华中科技大学教授刘世元创立的宇微光学软件有限公司(简称“宇微光学”),已成功研发全国产、自主可控的计算光刻 OPC 软件,填补国内空白。目前正在做集成与测试,并到芯片生产厂商做验证,孵化企业的武汉光电工研院也将提供技术转化服务


OPC 软件,即“光学邻近校正软件”,是芯片设计工具 EDA 的一种,没有它,即使用了光刻机,也造不出芯片。

据刘世元介绍,光刻是芯片制造中最为关键的一种工艺,通过光刻成像系统,将设计好的图形转移到硅片上。随着芯片尺寸不断缩小,硅片上的曝光图形会产生畸变。在 90nm 甚至 180nm 以下芯片的光刻制造前,都必须采用一类名为 OPC(光学临近校正)的算法软件进行优化。没有 OPC,所有 IC 制造厂商将失去将芯片设计转化为芯片产品的能力。

刘世元是华中科技大学光学与电子信息学院、机械科学与工程学院双聘教授,博士生导师;华中科技大学集成电路测量装备研究中心主任,同时也是光谷实验室集成电路测量检测技术创新中心主任。他早年师从华中理工大学前校长、著名机械学家杨叔子院士,于 1998 年获工学博士学位。

刘世元在 2002 年加盟上海微电子装备有限公司 (SMEE),承担国家 863 重大专项 ——“100nm 光刻机”研制任务,为总体组成员、控制学科负责人。刘世元组建了 SMEE 第一个控制工程实验室,解决了扫描投影光刻机中掩模台、工件台、曝光剂量等同步控制的技术难题。

2020 年 10 月,刘世元成立宇微光学公司。目前,团队除 2 名行政人员外,全部为研发人员,他们来自中国、美国、俄罗斯等不同国家,在相关领域均为顶尖技术专家,30% 以上成员拥有博士学位,具有丰富的行业经验。最终打造出自主可控的 OPC 软件算法。

IT之家获悉,宇微光学近期宣布完成 Pre-A 轮数千万元融资。本轮融资完成后,宇微光学将进一步加强各核心模块的集成化与软件产品化,同时对各项软件参数进行标定、测试与验证。下一步,宇微光学将加快产品推广步伐,加快进入国内外芯片制造厂商市场,力争成为全球芯片产业链中重要的一环。

来源:IT之家

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